韩国CN1饱和增压器生产真空镀膜芯片半导体

CN1有限公司是一家位于韩国工业园区的半导体和高科技设备制造公司，我们基于多年的经验和技术，尽最大努力提供更好的设备方案服务。不只是产品，我们以信任、忠诚和责任感而成为最好。不久前，CN1得到了中期G-创业项目的支持，G-创业项目是一个支持创业的项目，指的是帮助那些拥有创新的想法和出色的技术但缺乏资金难以创业的项目。

CN1成立于2008年11月，是一家在半导体领域不断发展的公司，并且在不断的研发当中。我们开发了韩国主要大学和国家研究机构所需的研发用ALD设备，并因其产品优势而受到认可，现在我们正在积极开展交付活动。

CN1是通过增加原子层来生长薄膜的新技术的创新性公司，与应用化学薄膜的传统化学气相沉积技术不同。而且，我们还创建了实施该技术的设备。目前，我们的ALD设备已交付给研究机构和大学。

CN1的主要业务是大学实验室/研究机构，国家研究机构和附属研究机构，已向首尔大学交付了20多台沉积设备，并已交付给韩国大学，延世大学，汉阳大学。不仅如此，我们的技术还得到国家的认可，像我们提供韩国化学技术研究所，韩国机械与材料研究所和韩国基础科学研究所，负责国家层面的研究。目前，该公司已进入美国，日本等海外市场。

郑代表最初主修电子学，　从在90年代初加入一家外国半导体设备公司的研究所以来，进入半导体沉积设备行业很长一段时间了。一直在研究和开发半导体沉积设备，距今已有15年。

当决定创业并与我的团队成员开展业务时，并没有开发大量的国内ALD市场，理由是想再一定的时间内来提高产品的实力。郑代表认为，在早期，即使在尚未开发的市场中，半导体专业设备的生产和处理领域也应该优先考虑技术，所以他将所有工作都投入到研发中，以确保技术的安全。

CN1作为一家技术公司，拥有多项专利和知识产权，并注册了废水处理装置，原子层沉积法，粉末涂装装置和涂装方法等专利。

该设备是ALD设备。里面是薄涂层。　所有部件均经过手工设计和测试。　它具有其他竞争对手无法轻易遵循的结构，性能和功能，但其特点是价格适中。

所有这些成就都是在郑代表和仅坚持半导体沉积设备研发外部员工的努力下完成的，CN1正在全球范围内与国际企业竞争，我们的目标是要告诉全世界我们的技术是最好的。